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pH值對碳化硅粉體表面鍍鎳的影響-《表面技術》2013年02期

摘要:對碳化(hua)硅表(biao)面進(jin)行化(hua)學鍍(du)鎳,研究了鍍(du)液的pH值對鍍(du)速、鍍(du)層組織及形貌9丁莉(li)莉(li);化(hua)學鍍(du)法制備Cu-Si復合粉體工藝研究[D];中(zhong)國(guo)海洋大(da)學;2009年10。

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2008年10月22日-納米碳化(hua)硅(gui)粉體2009-10-2210:47性(xing)能(neng)特點本產(chan)品純度高、粒徑小、分布均勻,比表(biao)(biao)面積(ji)大、高表(biao)(biao)面活性(xing),松裝密(mi)度低,具有極好的力學、熱學、電學和。

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2011-2016年中國超細碳化硅粉體行業當前現狀及未來趨勢發展預測報告

五金(jin)、工(gong)具磨料供應碳化硅微粉(fen)(fen)國(guo)標(biao)[詳細內容(rong)]1.工(gong)程陶(tao)瓷(ci)用(yong)(yong)微粉(fen)(fen):1)噴嘴等(deng)高溫窯具微粉(fen)(fen)反應燒結粉(fen)(fen):F240,F1200,W10,W14,W282)方梁等(deng)重(zhong)結晶用(yong)(yong)粉(fen)(fen):RR100。

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[摘要]本發(fa)明(ming)涉及一種以酵母(mu)粉(fen)為(wei)造(zao)孔(kong)劑的(de)碳化硅基(ji)體(ti)之基(ji)底的(de)機械產品,其外表(biao)面還具(ju)有一氧化鋁覆層。從而獲得高(gao)體(ti)積分數的(de)SiCp/Cu復合材料。本發(fa)明(ming)能(neng)夠。

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10.亢景(jing)付,張振利,韓春(chun)翠.等(deng)強(qiang)條件下橡膠粉對(dui)碾(nian)壓混(hun)凝土強(qiang)度(du)與變形性(xing)能的(de)34.劉桂香,黃(huang)向東,鄭振環,李強(qiang).熱壓燒結一步法制(zhi)備Cf/Cu復(fu)合材料的(de)組織(zhi)。

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摘(zhai)要:對碳化硅表面進(jin)行(xing)化學鍍鎳,研究了鍍液(ye)的(de)pH值對鍍速、鍍層組織及形(xing)貌的(de)影響。結果(guo)表明(ming):鍍液(ye)pH值低于8.5時(shi),無反應(ying)發生,粉。

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為改善SiC與(yu)金屬的結合性,分別采用(yong)化學(xue)鍍法(fa)和非均相沉(chen)淀法(fa)制備Cu包(bao)裹SiC顆粒(li)復合粉體。通過XRD衍射(she)分析得出以上(shang)兩種(zhong)包(bao)裹方法(fa)都(dou)可以得到(dao)大部分包(bao)裹著Cu相的SiC顆粒(li),。

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控制(zhi)的(de)一些(xie)主要方法,綜述(shu)了目前幾種主要金(jin)屬粉末(mo)(Au,Ag,Pd,Pt,Cu,Fe,Co,Ni納米(mi)碳化(hua)硅粉末(mo)納米(mi)金(jin)屬顆粒納米(mi)金(jin)剛石粉納米(mi)細粉納米(mi)鐵粉納米(mi)銅粉納米(mi)級。

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分析(xi)時(shi)間(jian)從24小時(shi)減(jian)到30min,但(dan)對Ca、Cr、Cu、Mg、Mn、Ti、V要克服方法(fa)的1姚永生;;電(dian)感耦合(he)等離子體原子發射光譜法(fa)測(ce)定碳化硅(gui)中(zhong)雜質元素[J];冶金分析(xi)。

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3用天然(ran)高嶺(ling)土制備碳化硅晶(jing)須(xu)/氧化鋁復合陶(tao)瓷粉的g161200580024384.X覆銅(tong)、抑(yi)制晶(jing)須(xu)生成的方法、212200780014522.5晶(jing)須(xu)得(de)到抑(yi)制的Cu-Zn合金耐熱。

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746-BG28813一種氮化(hua)(hua)硅/碳化(hua)(hua)硅多孔陶(tao)瓷的制(zhi)備(bei)方法747-BG28813激光(guang)熔覆制(zhi)備(bei)801-BG28813納(na)米(mi)ZrO2(Y2O3)/Cu復合(he)功能陶(tao)瓷材料的制(zhi)備(bei)方法802-BG28813一種。

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