化學機械研磨后清洗技術簡介_百度文庫
深圳(zhen)市博億化工機械有(you)限(xian)公司成(cheng)立于2004年,十余年的(de)技術發展與創新,博億人始終致力于濕(shi)法(fa)分散、研磨技術開(kai)發、設備制造(zao)及整體解(jie)決方案的(de)設計與實現,為廣大客(ke)戶(hu)提供了。
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芯(xin)片(pian)制造化學(xue)(xue)機械研磨廢水(shui)(shui)處(chu)理回用(yong)摘要:化學(xue)(xue)機械研磨廢水(shui)(shui)產(chan)生(sheng)量大(da)但總體污染物濃度(du)不高,回用(yong)潛(qian)力巨大(da),其處(chu)理及回用(yong)技(ji)術是(shi)芯(xin)片(pian)制造企業的研究。文章。
化學機械研磨廢水處理及回用技術的研究進展-《環境科學與技術》
“楔(xie)形”TEM樣品的機(ji)械(xie)研(yan)磨制(zhi)備技術(shu)張(zhang)啟華,趙燕麗(li),高強,李明,牛崇實(shi),簡維廷(中芯國際(ji)集成(cheng)電路制(zhi)造有限(xian)公司,上海201203)摘要:介紹了(le)一種用機(ji)械(xie)。
楔形TEM樣品的機械研磨制備技術-豆丁網
本發明提供了一種化學(xue)機械研(yan)磨(mo)的方法,包括(kuo)下(xia)列步驟:提供半導(dao)體襯底(di),所述(shu)半導(dao)體襯底(di)上具(ju)有(you)介質(zhi)層,所述(shu)介質(zhi)層內包含通孔和(he)/或溝槽;在介質(zhi)層上及通孔和(he)/或溝槽的。
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英(ying)特爾半(ban)導體(大連)有限公(gong)司招(zhao)聘化(hua)學(xue)機(ji)械(xie)研(yan)磨液(ye)技術員(yuan)(yuan),發(fa)布(bu)時間:2010年04月09日,職位(wei)類別:全職,工作地(di)區:大連,職位(wei)描述:化(hua)學(xue)機(ji)械(xie)研(yan)磨液(ye)技術員(yuan)(yuan)工作要求:?輔助工程師(shi)。
一種化學機械研磨的方法_百度搜索
2006年12月18日(ri)-近日(ri),應用材料(liao)公司宣布(bu)為200mmCMP(化學機(ji)械研(yan)磨)系統推出創(chuang)新的AppliedDuraPadCMP(化學機(ji)械研(yan)磨)拋光墊技術。DuraPad的使用壽命(ming)比現(xian)有(you)的研(yan)磨墊少(shao)延長(chang)了。
技術合作-晶圓技術工藝薈萃-機械研磨類技術工藝全集-技術合作盡在
臺資研(yan)磨(mo)光(guang)整設備及表面處理(li)方(fang)案供應商東莞市啟(qi)隆研(yan)磨(mo)機械有限(xian)公司(si)作(zuo)為研(yan)磨(mo)光(guang)整行業的(de)標桿(gan)企(qi)業,致力為客戶提供高性能、高性價比的(de)研(yan)磨(mo)光(guang)整設備、研(yan)磨(mo)光(guang)整材料(liao)以及。
英特爾半導體(大連)有限公司招聘化學機械研磨液技術員
近日,應用(yong)材料公司宣(xuan)布(bu)為200mmCMP(化(hua)學機(ji)械研(yan)磨(mo)(mo))系(xi)統推出(chu)創(chuang)新的(de)AppliedDuraPadCMP(化(hua)學機(ji)械研(yan)磨(mo)(mo))拋光(guang)墊技術(shu)。DuraPad的(de)使用(yong)壽命比現有的(de)研(yan)磨(mo)(mo)墊少延長了30%,有效地。
應用材料公司推出先進的化學機械研磨拋光墊技術
森勒(上海)機械設備(bei)有限公司,引(yin)進德國(guo)先進研磨技(ji)術,專(zhuan)業從事濕法研磨設備(bei)研究、生產的高科(ke)技(ji)股份(fen)制(zhi)有限公司,專(zhuan)注于材(cai)料研磨領域,細(xi)度解決方案。擁(yong)有廣(guang)泛而先進的生產。
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產品/解決方案濕法研(yan)磨干法研(yan)磨混(hun)合(he)/脫(tuo)氣精細分(fen)級實驗室(shi)(shi)機(ji)器系(xi)統&工程實驗室(shi)(shi)系(xi)統耐馳珠子行業&應用糖果研(yan)究與發展,教(jiao)學礦石/礦產/金屬。
應用材料公司推出先進的化學機械研磨拋光墊技術-研磨拋光,專業
銅互連和低K材料(liao)是半導(dao)體深亞微米工(gong)藝(yi)中涉及的兩個重要的技(ji)術(shu),而(er)這兩種新技(ji)術(shu)的發展也給傳統的化學機(ji)械研磨(CMP)工(gong)藝(yi)提出(chu)了(le)挑戰。
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本(ben)實用新型(xing)涉(she)及一(yi)種化(hua)學(xue)機(ji)械研(yan)磨設(she)備,包括(kuo):研(yan)磨臺(tai)支架;少兩個研(yan)磨臺(tai),由下上分層設(she)置于所述研(yan)磨臺(tai)支架中(zhong),每一(yi)所述研(yan)磨臺(tai)上表面設(she)置有研(yan)磨墊,下表面設(she)置有支撐(cheng)。
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2012年1月18日(ri)-什么(me)是(shi)研(yan)磨加工?發布(bu)時間:2013-01-18來源:機械專家網利用涂(tu)敷或壓嵌在(zai)(zai)研(yan)具上的(de)磨料顆粒,通過研(yan)具與(yu)工件在(zai)(zai)一定(ding)壓力。
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先進銅化學機械研磨技術半導體工藝突破65nm節點-測試與測量-
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機械加工中哪些用到研磨工藝_百度知道
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